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  • GSL-1800X-ZF2 蒸發鍍膜儀
    GSL-1800X-ZF2 蒸發鍍膜儀

    GSL-1800X-ZF2 蒸發鍍膜儀主要應用於大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試製、操作培訓和生產

    更新時間:2022-11-03型號:瀏覽量:367
  • GSL-1800X-ZF4 蒸發鍍膜儀
    GSL-1800X-ZF4 蒸發鍍膜儀

    GSL-1800X-ZF4 蒸發鍍膜儀是一款高真空的蒸發鍍膜儀,特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設有4個蒸鍍加熱舟,且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實現對有機材料的蒸發鍍膜,可滿足發光器件及有機太陽能電池方麵的研究要求,是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設備。

    更新時間:2022-11-03型號:瀏覽量:403
  • OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜(CSS)爐
    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜(CSS)爐

    OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜(CSS)爐專門針對於用PVD或CSS法來製作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD,爐管內載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達20ºC/S 。溫控係統為PID30段程序化控製,控溫精度為+/-1ºC。儀器麵板上帶有RS485接口,儀表內配有控溫軟件,可將升溫程序和曲線導出。

    更新時間:2022-10-28型號:瀏覽量:347
  • 鈣鈦礦鍍膜機
    鈣鈦礦鍍膜機

    鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣係統、真空測量係統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控係統、配氣係統等部分組成。適用於製備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用於科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用於大批量生產前的試驗工作,廣泛應用於有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

    更新時間:2022-10-28型號:瀏覽量:419
  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發鍍膜爐
    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發鍍膜爐

    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對於熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜麵積可達到5“x5“,並且頂部載樣台可旋轉,提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位於頂部和底部),大升溫速率為10ºC/s 。對於探索新一代的薄膜太陽能電池,

    更新時間:2022-10-28型號:瀏覽量:289
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